超声波是高频电磁波，具有良好的聚焦性能和衰减特性。半导体超声波清洗机主要用于清洁工件表面。利用半导体超声波清洗机可以有效地去除半导体器件表面的污垢和污染物，从而保证生产过程的高质量和可靠性
以下为半导体超声波清洗机的使用步骤：
1、请确保超声波清洁器的腔体底部没有任何杂物，如有需要，请清理干净。
2、混合清潔劑和水，並按比例加入清洗槽。
3、启动电源，设备自动进行诊断。
4、打开通风开关以排出气体。
5、调整溶液的温度，升温清洁溶液。加热不得超过45摄氏度。
6、在移动水下初步清洗设备后，将其放入超声波清洗机中清洗样品篮。保证设备必须有一个清洁篮，直接放在超声波清洗室的底部。设备应该完全展开，可以拆分的设备则分开部件。倾斜和放置细长的空心设备（例如吸管），让空腔充满溶液，确保清洁液的液位浸入设备2至4厘米深。
7、将超声波清洁器盖好，设定清洁时间，开始运行超声波清洁。清洁时间应在3-5分钟之间，但不可超过10分钟。
8、完成超声波清洗后，需进行连续的后续清洗、漂洗、不漂洗和消毒程序。超声波清洗结束后，设备中的液体会被排放。
使用半导体超声波清洗机时，务必严格遵循操作流程，确保清洗效果，保护清洗物件免受损伤，同时确保设备长期稳定运行。
友情链接：